半导体研磨废水怎么处理|半导体研磨废水如何处理
文章来源:ynddj.cn | | 阅读量:19 说出周期:2026-11-02
品牌历史背景
该类目最靠近华东中北部中北部是一家着名半导体设备导致企业主,主要的制造8寸大和12寸大晶圆。渐渐扩产添加,研磨机工艺程序导致的化工废水流量从原本的200吨/日添加到350吨/日,固有操作的设施已不能满意标准,且出水量水硬度不稳定性,急待开工建设和改革化工废水操作装置。
废气材料及的来源
该客户研磨设备化工废水主要是发源以内程序:
有机化学自动化抛光机(CMP)生产废水:包含的二脱色反应硅、脱色反应铝等抛光机顆粒,颗粒直径在0.1-1μm范围图
晶圆后边研磨设备焦化废水:内含硅粉、合金材料阴阳离子(铜、铝等)及极少量有机的增多剂
切开精磨废水处理:注意物质为氧化硅小粒和激光切割油精华液
生产废水性表面为:pH值起伏大(2-11)、悬浮物物质量浓度高(500-2000mg/L)、包含的微量分析血本属和难吸附无机物,COD通畅在200-500mg/L位置。
清理艺具体流程
經過三次小试和中试,结果是确认进行下面的工作生产技术:
缓解池
:设置成pH线下探测和重新投加药剂平台,将废水处理pH增强在6.5-7.5区间
混凝土沉垫
:加药系统整合氯化铝(PAC)和阴铝离子型聚乙烯酰胺(PAM),相溶不起作用后进入斜板放置池
溶气气浮
:运用个部分吸附式溶气气浮,进一大步除掉狗狗细小顆粒和橡胶胶体部分杂质
多材质过滤器
:选用石英砂砂+活性氧炭有级滤水,确保安全生产留水SS<10mg/L
膜治理系统化
:涉及超滤膜(UF)和反进行渗透(RO)有级,RO浓水重新正确处理
污泥净化处理净化处理
:水解随和浮飞灰经板框压滤后建筑垃圾清运治理
关键的工艺流程产品参数:水泥混凝土环节G值操作在60-80s⁻¹,反映周期15min;气浮流回比30%,停周期20min;超滤工作会更膜通量60LMH,超滤工作会更环保再生资源回产出率75%。
结果是实际效果
体统作业动态平衡后,出水量水质检测是完全到《电子为了满足电子时代发展的需求,工业化水严重污物释放基准》(GB39731-2020)很大释放卫生防护距离要,基本评价指标有以下:
SS<5mg/L(我们要除率>99%)
COD<30mg/L(出掉率>93%)
铜正离子<0.3mg/L
冒水回收利用率满足65%之上
污泥干化回收利用40% compared to原制作工艺
本次目总资金约1200十万,电脑运行资金约8.5元/吨水,年可削减污废水 排放口量六万多吨,二手回收水資源4亿吨,国家经济竞争力和生态竞争力同质性。